Pat Gelsinger, cựu CEO Intel, gia nhập startup Xlight, cách mạng công nghệ in khắc EUV

Pat Gelsinger, cựu CEO của Intel, vừa đảm nhận vai trò Chủ tịch điều hành tại Xlight, một startup đầy tiềm năng. Xlight đang phát triển công nghệ laser electron tự do (FEL) đột phá, được kỳ vọng sẽ tạo ra nguồn sáng cho hệ thống in khắc cực tím (EUV) tiên tiến.
Công nghệ này sử dụng máy gia tốc hạt để tạo ra ánh sáng cho các máy in khắc, một ý tưởng đã được thảo luận trước đây. Tuy nhiên, Xlight tự tin có thể hiện thực hóa điều này vào năm 2028, đồng thời đảm bảo tính tương thích với các công cụ hiện có.
Gelsinger chia sẻ trên LinkedIn rằng ông sẽ hợp tác chặt chẽ với đội ngũ Xlight để xây dựng các laser electron tự do mạnh mẽ nhất thế giới, tận dụng công nghệ máy gia tốc hạt.
In khắc EUV là một kỹ thuật tiên tiến trong sản xuất bán dẫn, cho phép tạo ra các mạch điện cực kỳ nhỏ trên tấm silicon. Hiện tại, chỉ có ASML sản xuất được hệ thống in khắc EUV, sử dụng một quy trình phức tạp để tạo ra ánh sáng có bước sóng 13,5nm.
Tuy nhiên, Xlight đang đi theo một hướng khác. Họ đã tạo ra một nguồn sáng laser plasma (LPP) mạnh hơn gấp bốn lần so với các hệ thống tiên tiến nhất hiện nay. Theo đó, nguồn LPP của Xlight vượt trội hơn hẳn so với nguồn 250W của ASML Twinscan NXE:3600D và nguồn 300W của NXE:3800E.
Gelsinger khẳng định công nghệ của Xlight có thể giảm chi phí trên mỗi tấm bán dẫn khoảng 50%, đồng thời giảm đáng kể cả chi phí đầu tư ban đầu và chi phí vận hành.
Điều quan trọng cần lưu ý là Xlight không có ý định thay thế các công cụ in khắc EUV của ASML. Thay vào đó, họ muốn tạo ra một nguồn LPP có thể kết nối với máy quét ASML và hoạt động vào năm 2028.
Ngoài lĩnh vực bán dẫn, Xlight tin rằng công nghệ của họ còn có thể ứng dụng trong các lĩnh vực quan trọng khác như đo lường, kiểm tra, an ninh quốc gia, công nghệ sinh học, y học và nghiên cứu khoa học.